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- 개요 및 목적
Mask USC는 설비는 LCD, OLED 제조공정 중 노광 공정에서 Photo mask 표면의 부유성 이물을 초음파 Air에 의한 비접촉 방식으로 세정하는 설비입니다.
- 상세내용
Mask USC
Application of mask
max. weight of mask 35 Kg
Cleaning area
Top side : 590 mm x 860 mm(100%)
Bottom side : 480 mm x 750 mm(88.36%)
Size & Thickness
frame size & thickness : 590 mm x 860 mm & 37 mm, 22 mm
mask size & thickness : 486 mm x 756 mm & 100 um
Tact time
120 sec
Equipment size
3,300mm(L) x 2,000mm(W) x 2,000 mm(H)
Pass line height
1600mm
